光刻技术原理如图：当光源发出强紫外线光时，调节镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离，使光通过二者后，恰好在硅片上成清晰的像，从而实现纳米级集成电路的“雕刻”。缩图透镜属于的类型可用于矫正（选填“近”或“远”）视眼，为了使硅片上所成的像更小一些，

1. 光刻技术原理如图：当光源发出强紫外线光时，调节镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离，使光通过二者后，恰好在硅片上成清晰的像，从而实现纳米级集成电路的“雕刻”。缩图透镜属于的类型可用于矫正（选填“近”或“远”）视眼，为了使硅片上所成的像更小一些，应将掩膜版缩图透镜的同时，硅片缩图透镜。（以上两空均选填“靠近”或“远离”）

基础巩固换一批

1. 如图所示，已知凸透镜焦距为10.0cm，此时光屏可以得到一个清晰倒立{#blank#}1{#/blank#}实像。若将蜡烛移到45cm刻度线处，此时所成的像与该蜡烛放在平面镜前所成像的区别是{#blank#}2{#/blank#}。

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2. 如图所示，来自物点A的光线经过眼睛的晶状体成像在视网膜后面的B点。要使像远离视网膜，物点A应该向{#blank#}1{#/blank#}（选填“左”或“右”）移动；要使像成在视网膜上，应佩戴一个合适的{#blank#}2{#/blank#}透镜制成的眼镜。（选填“凸”或“凹”）

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3. 小丽组在探究凸透镜成像的规律时，使用的透镜焦距为20cm，他们把蜡烛和凸透镜分别放在下图所示位置，然后调节光屏能接收到一个倒立、{#blank#}1{#/blank#}（放大/缩小）的像，像的位置在60cm刻度处的{#blank#}2{#/blank#}侧（左/右） .

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